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アドバンテスト、フォトマスク用MVM-SEM「E3650」を発表

2018/11/29 17:55
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発表日:2018年11月29日

測定スループット 従来機種比2倍、フォトマスク用MVM-SEM「E3650」を発表

株式会社アドバンテスト(本社:東京都千代田区 代表取締役 兼 執行役員社長:吉田 芳明)(以下当社)は、最新MASK MVM-SEM(Multi Vision Metrology Scanning Electron Microscope:多次元観察・測長走査型電子顕微鏡)「E3650」を発表します。独自の電子ビーム走査技術を用いて、フォトマスクの微細パターン寸法をより高い精度と安定性で計測します。

「E3650」は、フォトマスク用SEM市場で広く支持されている当社「E3600シリーズ」の最新機種として、測定スループットを現行機種「E3640」より2倍に向上。多重露光によるマスク枚数の増加、および複雑化するパターニングによる測定点数の増加に対応可能な高スループットを実現しました。最先端フォトマスクに加え、EUVマスクやナノインプリント用マスターテンプレートの測定にも優れた性能を発揮します。

なお、本製品は、2018年12月12日から14日まで東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan 2018」に出展する予定です。

*製品画像は添付の関連資料を参照

※本ニュースリリースに掲載されている情報は、発表日現在の情報であり、時間の経過またはさまざまな事象により予告無く変更される可能性がありますので、あらかじめご了承ください。

リリース本文中の「関連資料」は、こちらのURLからご覧ください。

製品画像

http://release.nikkei.co.jp/attach_file/0496989_01.png

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