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【薄型ディスプレー製造装置大手】真空技術に強み。中国も拡大。

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アルバック、東京工業大に拠点 AIなど共同研究

エレクトロニクス
2021/9/22 15:28
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アルバックは東工大のキャンパス内に研究拠点を設置した

アルバックは東工大のキャンパス内に研究拠点を設置した

半導体製造装置大手のアルバックは22日、半導体の製造技術の改良に向けて東京工業大学の大岡山キャンパス(東京・目黒)内に研究拠点を設置したと発表した。東工大と計測技術や人工知能(AI)技術を共同研究して、半導体の製造プロセスの改良や装置の高性能化につなげる狙い。将来に向けた人材育成などにも力を入れる。

アルバックは、今回設置する「アルバック先進技術協働研究拠点」で、東工大科学技術創成研究院との連携を強化する。同研究院の赤塚洋准教授とプラズマ計測技術を、熊沢逸夫教授とはAI技術の研究に取り組む。

東工大が持つプラズマ測定技術とAI技術を組み合わせ、これまで計測できていなかったプラズマの状態を調べて装置の高性能化を狙う。研究拠点の設置期間は2026年9月までを見込む。拠点内に「研究企画室」を設け、幅広い研究テーマについて連携して取り組む。

アルバックが強みを持つ真空装置では、性能の向上のためにAI技術の活用が欠かせなくなっている。ただ、アルバックが取得できるデータだけでは、性能の向上に限界があった。特に真空装置ではプラズマを使う工程が多く、プラズマの状態を直接測定して製造に反映する技術が必要だった。

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