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IBM、2ナノ半導体が示す「ムーアの法則」と米国回帰

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日経クロステック

米IBMは2ナノメートル(ナノは10億分の1、nm)プロセスの半導体製造技術でテストチップの作成に成功したと5月6日(米国時間)に発表した。「LSI(大規模集積回路)の構築に必要な数千のマクロについて、性能や信頼性、欠陥密度を確かめた」と、IBMリサーチ ディレクターのダリオ・ギル氏は語る。

同社によれば、現在主流の先端プロセスである7nmプロセスと比較して、チップの演算性能を45%高めるか、ある...

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