IBM、2ナノ半導体が示す「ムーアの法則」と米国回帰

米IBMは2ナノメートル（ナノは10億分の1、nm）プロセスの半導体製造技術でテストチップの作成に成功したと5月6日（米国時間）に発表した。「LSI（大規模集積回路）の構築に必要な数千のマクロについて、性能や信頼性、欠陥密度を確かめた」と、IBMリサーチ ディレクターのダリオ・ギル氏は語る。

同社によれば、現在主流の先端プロセスである7nmプロセスと比較して、チップの演算性能を45%高めるか、ある...