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韓国SK、中国半導体工場での先端投資凍結 米規制で

【ソウル=細川幸太郎】半導体メモリー大手の韓国SKハイニックスが米国の規制を受けて中国工場で最先端設備の導入を見送っていたことが18日わかった。米当局はトランプ前政権以降、半導体装置メーカーに対して先端装置の中国への輸出を制限している。中国企業だけでなく外国企業の中国工場への導入も規制対象に含まれることが明らかになった形だ。

SKハイニックスは中国江蘇省に半導体メモリー工場を構えており、同社のDRAM出荷量の4割程度を生産している。同社は半導体性能を飛躍的に高められる「EUV(極端紫外線)露光」と呼ばれる最新製造技術を中国工場にも導入しようとしたものの、米当局の制約によって先端投資を凍結したという。

規制対象のEUV露光装置はオランダの半導体装置大手ASMLが独占的に供給する。米当局はこれまで中国企業への納入を制限する方針を示していた。ただ外国企業の中国工場に納入される場合でも、生産技術者などを通して先端技術が流出する可能性を懸念して制限に動いたとみられる。

SKは韓国内の工場にはEUV装置を導入して先端品のDRAM生産ラインを整備している。

同業のサムスン電子も中国陝西省に半導体メモリー工場を運営しているものの、NAND型フラッシュメモリー専用工場のため現時点ではEUV装置を必要としていない。NANDは記憶素子を縦方向に積み上げる「3次元技術」を各社が競っており、半導体の回路線幅を極限まで細くする「微細化」に不可欠なEUV装置がなくても先端品を量産できるためだ。

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