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東エレク、装置開発で山梨に新棟建設へ 110億円

半導体製造装置大手の東京エレクトロンは、製造装置の新しい開発棟を山梨県に建設すると発表した。半導体需要の高まりに対応する。約110億円を投じ、2021年9月に着工する予定。スマートフォンやデータセンターなどに使う最先端半導体の製造技術を開発するもよう。「微細化」が進み製造技術の伸びしろが限られるなか、競争力を高める狙いがある。

製造子会社である東京エレクトロンテクノロジーソリューションズの穂坂事業所(山梨県韮崎市)に新棟を建設する。延べ床面積は約2万2000平方メートルで、地上4階建て、23年春に竣工する予定という。

半導体の電子回路を形成するための「成膜装置」や「ガスケミカルエッチング装置」などの製造装置や、複数の製造工程をまたぐ技術などを開発する。

最新のスマホ向け半導体では、回路線幅を5ナノ(ナノは10億分の1)メートルまで狭めている。微細化の技術開発が年々難しくなるなか、研究開発(R&D)など成長投資を強める。

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