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東北大など、LSI製造を低コスト化 14年に装置製品化

東北大学の江刺正喜教授と半導体製造装置メーカーのクレステック(東京都八王子市)は、高性能な大規模集積回路(LSI)を低コストに製造する装置を開発する。シリコン基板に電子線を直接当てて、微細な回路をつくる技術を研究。現在主流のフォトマスクという部材を使う製造法よりコストを低減させる。2014年に装置の製品化を目指す。

コンピューターによる回路設計をもとに電子線をシリコン基板に照射し、配線幅10ナノ(ナノは10億分の1)メートルの回路を描く。現在主流の技術では回路形状を描いたフォトマスクを使って基板に回路を転写している。フォトマスクはLSI製造装置1台当たり数億円と高価なのが課題だ。

新技術ではフォトマスクが不要になり製造コストを下げられる。回路設計もコンピューターで変えられるため、少量多品種生産が可能になる。特別仕様のLSIを必要とするスーパーコンピューターなどへの供給の用途が見込まれる。

クレステックはベンチャー投資会社の東北イノベーションキャピタル(仙台市、TICC)から約5000万円を資金調達した。07年に設立されたTICCによる投資は13件目。

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