次世代技術の「EUV」、半導体製造装置の競争促す

2020/7/6 11:00
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日本経済新聞 電子版
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次世代の半導体製造技術「EUV(極端紫外線)」を巡り、装置メーカーの競争が激化する。東京エレクトロンが2021年3月期に過去最大の開発費を投じるほか、レーザーテックの受注高は過去1年で倍増した。EUV関連機器ではオランダのASMLが中核の露光装置を独占するが、検査や光源などで日本勢の存在感が高まる。

「EUVが普及すると、よりハイエンドな装置の需要が高まる」。こう話すのは半導体製造装置の世界3位…

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