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東大と産総研、ナノメートルスケールの凹凸加工を施した「ナノすりガラス」で超親水性を実現

発表日:2021年03月29日

ナノメートルスケールの凹凸加工を施した「ナノすりガラス」で超親水性を実現

-有機半導体薄膜の印刷に適した汎用的な基板として期待-

1.発表者:

牧田 龍幸(研究当時:東京大学大学院新領域創成科学研究科物質系専攻 博士課程3年生)

二宮 陽真(研究当時:東京大学大学院新領域創成科学研究科物質系専攻 修士課程2年生)

渡邉 峻一郎(東京大学大学院新領域創成科学研究科物質系専攻 准教授/産業技術総合研究所 産総研・東大 先端オペランド計測技術オープンイノベーションラボラトリ 客員研究員 兼務)

竹谷 純一(東京大学大学院新領域創成科学研究科物質系専攻 教授/連携研究機構マテリアルイノベーション研究センター(MIRC)特任教授 兼務/産業技術総合研究所 産総研・東大 先端オペランド計測技術オープンイノベーションラボラトリ 客員研究員 兼務/物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点(WPI-MANA)MANA 主任研究者(クロスアポイントメント))

2.発表のポイント:

◆インクを用いた印刷プロセスには、一般的に親水性表面が適しています。これは、インクが印刷面によく濡れ広がるためです。しかしながら、継続的に超親水性を維持する印刷面を得ることは非常に困難でした。

◆今回、一般的なガラスの表面を弱酸でマイルドに処理し、ナノメートルスケールの凹凸加工を施した「ナノすりガラス」を開発しました。ナノすりガラスの表面は、150°Cの高温でも、1日以上、超親水性を維持できることが分かりました。

◆ナノすりガラス上では、高温での印刷が必要な有機半導体でも良質な単結晶薄膜を大面積製造することが可能となり、将来の産業応用における低コスト・フレキシブルエレクトロニクス用の基板としての利用が期待されます。

※以下は添付リリースを参照

リリース本文中の「関連資料」は、こちらのURLからご覧ください。

添付リリース

https://release.nikkei.co.jp/attach/607410/01_202103261455.pdf

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