京大など、フェリ磁性体においてスキルミオンホール効果消失を実証

発表日:2019年1月22日

フェリ磁性体においてスキルミオンホール効果消失を実証

－スキルミオンを利用した高密度磁気メモリの実現へ道筋－

小野輝男 化学研究所教授、Duck-Ho Kim 同研究員、平田雄翔 同博士課程学生らの研究グループは、Yaroslav Tserkovnyak カリフォルニア大学教授、Se Kwon Kim 同博士研究員（現・ミズーリ大学助教）、Kyung-Jin Lee 高麗大学校教授、Sug-Bong Choe ソウル大学校教授、塚本新 日本大学教授らと共同で、フェリ磁性合金ガドリニウム・鉄・コバルト（GdFeCo）と非磁性重金属プラチナ（Pt）から成る二層膜を用いて、スキルミオンホール効果がフェリ磁性体の角運動量補償温度において消失することを実証しました。

スキルミオンは、外部の擾乱に対して安定であり、非常に小さく、低閾電流密度で駆動可能であるなど、磁気記録媒体として理想的な性質を有しています。しかしながら、スキルミオンホール効果の存在によりその磁気メモリへの応用は困難であるとされてきました。

本研究成果は、スキルミオンを利用した超高密度な磁気記録素子や論理回路の実現へ向けた道筋となることが期待されます。

本研究成果は、2019年1月22日に米国の科学誌「Nature Nanotechnology」のオンライン版に掲載されました。

※図は添付の関連資料を参照

■詳しい研究内容について

・フェリ磁性体においてスキルミオンホール効果消失を実証－スキルミオンを利用した高密度磁気メモリの実現へ道筋－

　http://www.kyoto-u.ac.jp/ja/research/research_results/2018/documents/190122_1/01.pdf

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図

https://release.nikkei.co.jp/attach_file/0500648_01.jpg