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企業秘密の流用認める ラベル貼り機設計図、初公判で2被告

ラベル貼り機を製造する「光洋自動機」(横浜市)から流出した企業秘密の設計図を使用したとして、不正競争防止法違反の罪に問われたいずれも元社員の西克宏被告(49)と加藤琢磨被告(40)は20日、横浜地裁(近藤宏子裁判官)での初公判で「間違いない」と述べ、起訴内容を認めた。

法人として同罪に問われた転職先の競合会社「アイ・ディ・ケイ」(同市)も同様に認めた。

検察側は冒頭陳述で、2人より先に転職した元社員、南圭一被告(62)=同罪で公判中=から流用を提案されたと経緯を指摘。「設計図は営業活動上の重要な財産で、厳重に管理されていた。アイ・ディ・ケイは光洋自動機に経済的損失を与えた」と述べた。

西被告の弁護側は「営業秘密の重要性は高くなかった」とし、加藤被告側は「光洋自動機の情報管理が徹底されていなかった」とした。会社側は組織的関与を否定した。

起訴状によると、2人と同じように転職した原野努被告(47)=同罪で公判中=が光洋自動機在職中に持ち出した設計図のデータをパソコンに取り込み、西被告は昨年3月、加藤被告は昨年6月、それぞれ新たな図面に貼り付けたなどとしている。〔共同〕

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