最先端半導体の回路原版、量産工程を開発 大日本印刷、線幅5ナノ対応

2020/7/10付
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日本経済新聞 朝刊
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大日本印刷(DNP)は最先端の回路線幅5ナノ(ナノは10億分の1)メートルの半導体の製造に対応したフォトマスク(回路原版)の量産工程を開発した。ベルギーの研究開発機関、IMECなどと共同で、3ナノメートル向けの開発にも着手した。次世代通信規格「5G」や自動運転技術向けで拡大する高機能の半導体の需要を取り込み、2023年に年60億円の売上高を目指す。

フォトマスクは微細な回路の半導体を大量生産する…

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