半導体「EUV」 周辺装置も競争
東京エレクトロン、開発費最大に/レーザーテックは検査機受注2倍

2020/7/7付
情報元
日本経済新聞 朝刊
保存
共有
その他

次世代の半導体製造技術「EUV(極端紫外線)」を巡り、装置メーカーの競争が激化する。東京エレクトロンが2021年3月期に過去最大の開発費を投じるほか、レーザーテックの受注高は過去1年で倍増した。EUV関連機器ではオランダのASMLが中核の露光装置を独占するが、検査や光源などで日本勢の存在感が高まる。

「EUVが普及すると、よりハイエンドな装置の需要が高まる」。こう話すのは半導体製造装置の世界3位…

[有料会員限定] この記事は会員限定です。電子版に登録すると続きをお読みいただけます。

電子版トップ



[PR]