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特許審査、日米で共通化 来年4月から

両国当局が合意

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特許庁は6日、米国特許商標庁と審査手続きの簡素化で合意した。企業や大学、発明家などが日米両国で同時に特許を取りたい場合、日本の特許庁による審査を受ければ米当局がその結果を受け入れ、審査手続きの二度手間を省けるようにする。市場の大きい両国での特許審査が速まれば、企業の負担軽減や事業展開の加速を促しそうだ。

特許庁の羽藤秀雄長官と米特許商標庁のリー副長官が同日午前、合意文書を交わした。日米両国で出願さ...

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